Основы технологии кремниевых ИС: Окисление, диффузия, эпитаксия
Бургер Р., Донован Р. (ред.)
Книга посвящена процессам окисления, диффузии и эпитаксии кремния. По существу изложенный материал охватывает основные процессы планарной технологии - наиболее универсальной современной технологии, позволяющей производить любые полупроводниковые приборы от простейшего диода до сложнейших интегральных субсистем. Использованы малоизвестные или не публиковавшиеся ранее данные и сведения из отчетов фирм и докладов на конференциях. Приведено большое количество графиков и поясняющих схем.
Thể loại:
Năm:
1969
Nhà xuát bản:
Мир
Ngôn ngữ:
russian
Trang:
227
File:
DJVU, 4.96 MB
IPFS:
,
russian, 1969
Litres
Bạn có muốn thêm cừa hàng sách? Xin liên lạc theo support@z-lib.do
Chuyển đổi tập tin
Các kết quả tìm kiếm tiếp theo
Các lợi ích khác 
